จีนทำสำเร็จ ผลิตชิป 5 nm ได้แล้วโดยไม่พึ่งเครื่อง EUV ของ ASML

Keaw Karinthip
เขียนโดย:

ข่าวล่าสุดเกี่ยวกับ SMIC (Semiconductor Manufacturing International Corp.) ของจีน ระบุว่าบริษัทกำลังจะผลิตชิปที่มีขนาด 5 นาโนเมตร สำหรับ Huawei ในปีนี้การผลิตนี้จะใช้เทคโนโลยีการผลิตที่ไม่พึ่งพาการใช้งาน EUV (extreme ultraviolet) lithography เนื่องจากบริษัทไม่สามารถได้รับเครื่องมือที่เหมาะสมจาก ASML แต่จะใช้เครื่องมือ DUV (deep ultraviolet) lithography ที่มีอยู่แล้ว


นอกจากนี้ยังมีรายงานว่า SMIC ได้ตั้งโรงงานผลิตชิปใหม่ที่เซี่ยงไฮ้เพื่อผลิตชิปที่ออกแบบโดย Huawei บนเทคโนโลยีการผลิต 5 นาโนเมตร แม้ว่าจะมีคำถามเกี่ยวกับความเป็นไปได้ทางเศรษฐกิจและประสิทธิภาพของการผลิตชิปขั้นสูงของจีน แต่การเคลื่อนไหวนี้ถือเป็นก้าวสำคัญที่แสดงถึงความพยายามของจีนในการพึ่งพาตนเองและนวัตกรรมในด้านเซมิคอนดักเตอร์


ที่มา - TomsHardware


จีนทำสำเร็จ ผลิตชิป 5 nm ได้แล้วโดยไม่พึ่งเครื่อง EUV ของ ASML

#buttons=(โอเค ยอมรับ !) #days=(20)

เว็บไซต์ของเราใช้คุกกี้เพื่อปรับปรุงประสบการณ์ของคุณ ดูรายละเอียด
โอเค ยอมรับ